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> 產(chǎn)品類(lèi)目 > 設(shè)備儀器 > 鍍膜設(shè)備 > GKI-21磁控濺射鍍膜機(jī)
貨號(hào)
GKI-21
服務(wù)
參數(shù)定制，免費(fèi)培訓(xùn)，終身維護(hù)，售后無(wú)憂
設(shè)備用途
GKI-21磁控濺射鍍膜機(jī)用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
設(shè)備組成
系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個(gè)靶）、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。
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3500元 3500元
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2500元 2500元
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4500元 4500元
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